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Pulsed laser deposition
Supprimer la restriction Assujettir: Pulsed laser deposition
La description: | La técnica de ablación láser es ampliamente utilizada en el depósito de materiales en forma de película delgada, con algunas ventajas respecto otras técnicas de depósito. El plasma formado por ablación láser involucra especies con energías iónicas y densidades del plasma que se pueden variar en intervalos amplios. Estas variaciones... |
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Assujettir: | Thin films, Películas delgadas, Deposición por láser pulsado, Pulsed laser deposition, Plasma confinement, and Confinamiento del plasma |
Créateur: | Arrieta Castañeda, Alma Mireya |
Donateur: | Olayo González, Roberto, Meléndez Lira, Miguel Ángel, Hernández Pozos, José Luis, Villagrán Muniz, Mayo, Sosa Fonseca, Rebeca, and Escobar Alarcón, Luis |
Éditeur: | Universidad Autónoma Metropolitana |
Posgrado: | Doctorado en Ciencias Fisica |
La langue: | spa |
Año de publicación: | 2009 |
Déclaration des droits: | Acceso Abierto |
Licence: | Atribucion-NoComercial 4.0 Internacional (CC BY-NC 4.0) |
Tipo de Recurso: | info:eu-repo/semantics/doctoralThesis |
Identificateur: | https://doi.org/10.24275/uami.q524jn81q |